氧化鋁的應用介紹

氧化鋁，分子量101.96，密度3.97，熔點2045℃，沸點3500℃，在10-2Pa真空下的蒸發溫度為1550℃?？捎面u、鉬舟加熱蒸發，易分解為吸收膜。用電子束加熱蒸發則不分解。其在230nm~2μm波長范圍內為無吸收膜，在2.7μm~3.6μm范圍內吸收很小。Al2O3薄膜的透明區為0.2~8μm。其折射率與基底溫度有關，基底為室溫時n=1.53~1.60（λ=550nm），基底為300℃時n=1.60~1.64（λ=550nm）。反應濺射制備的Al2O3薄膜在可見區的折射率為n=1.78。Al2O3薄膜的機械性能極強，甚至薄膜生長到微米厚也是足夠牢固的。其不溶解于水，僅對酸稍有腐蝕。目前生產氧化鋁薄膜所采用的方法是電子束蒸發、射頻濺射、反應直流濺射或反應蒸發技術。

氧化鋁是一種適用于紫外光譜分析的中折射率材料。氧化鋁薄膜廣泛地應用于半導體的阻擋層，光學以及微電子學等領域?？捎糜诜婪瓷渫苛?、介質鏡、多層濾光片、干涉膜、保護膜等。

愛特斯光學自2007年開始生產三氧化二鋁鍍膜材料，主要有晶體顆粒和燒結壓片兩種，顏色分別為無色透明和白色，純度為99.99%；常用的規格尺寸為晶體顆粒1-3mm，同時其他尺寸可根據客戶的要求進行定制。