鍺的應用介紹

鍺，理論密度5.4g/cm3，蒸發溫度1360-1520℃，938℃，2833℃，可用電子槍、鎢坩堝、鉬坩堝、鉭舟蒸發。制備薄膜前需要預熔，基片溫度范圍100-200℃，典型使用的薄膜透光范圍1.7-2.3，折射率4.3-4.4 @ 550nm， 4-4.10@10μm。鍺是紅外應用的高折射率材料，波段下具有較低的吸收性。

鍺具備多方面的特殊性質，在半導體、航空航天測控、核物理探測、光纖通訊、紅外光學、太陽能電池、化學催化劑、生物醫學等領域都有廣泛而重要的應用，是一種重要的戰略資源。在電子工業中，在合金預處理中，在光學工業上，還可以作為催化劑。高純度的鍺是半導體材料。從高純度的氧化鍺還原，再經熔煉可提取而得。摻有微量特定雜質的鍺單晶，可用于制各種晶體管、整流器及其他器件。鍺的化合物用于制造熒光板及各種高折光率的玻璃。單質鍺的折射系數很高，只對紅外光透明，而對可見光和紫外光不透明，所以紅外夜視儀等軍用觀察儀采用純鍺制作透鏡。

愛特斯光學專業生產鍺顆粒，純度5N以上，常規尺寸1-3mm, 3-5mm,可定制。