五氧化二鈮,密度4.47g/cm3,折射率2.1-2.3,是介于TiO2與Ta2O5的高折射率材料,不溶于水,除硫酸和氫氟酸外,不溶于其它酸。五氧化二鈮在近紫外光到紅外光都是透明的,可以濺鍍Nb靶,亦可取Nb2O5用電子槍加離子源輔助鍍膜,得到堆積密度近乎為1的光學薄膜,不過其鍍前材料的預熔非常重要。Nb2O5常與SiO2搭配鍍多層濾光片,主要用于濾光器和高反膜。
五氧化二鈮薄膜由于其獨特的物理和化學性質如高折射率、大的光學帶隙、很好的化學穩定性和抗腐蝕性能而被廣泛地應用于現代技術的許多領域,如:光學干涉濾波器、電化色薄膜和氣體傳感器等。
愛特斯光學自2007年開始生產五氧化二鈮鍍膜材料,主要規格有燒結顆粒,純度為99.99%,常用的尺寸為燒結顆粒1-3mm 3-5mm,可定制。